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22.09.2011

begehbare licht- und luftdurchlässige Lichtschachtabdeckung aus Acrylglas zum Auflegen auf bestehende Gitterroste

Herkömmliche Lichtschachtabdeckungen bestehen üblicherweise aus einem Metallgitter, das für Schmutz, Insekten und Nässe keine Barriere darstellt. Bekannte Lösungen zum Auflegen auf bestehende Lichtschachtgitter bestehen oft aus einem Gewebe, das keine Feuchtigkeit abhält und den Lichteinfall zusätzlich beeinträchtigt. Lösungen aus Kunststoff führen meist zu unzureichender Belüftung und Kondenswasserstau, bzw. sind wegen Schrägstellung nicht begehbar.

Die plane Kunststofffläche (1) der erfindungsgemäßen Lichtschachtabdeckung liegt auf Kunststoffstegen (3) auf, die zwischen dem bestehenden Lichtschachtgitter und der Kunststofffläche (1) einen Hohlraum erzeugen. Lüftungsöffnungen (2) sind entweder in den Seitenteilen, oder als Aussparungen in der Kunststofffläche (1) angebracht. Die Lüftungsöffnungen liegen immer lotrecht zu den Kunststoffstegen (3) um die Luftzirkulation nicht zu behindern. Den Rand bildet entweder ein Aluminiumrahmen (4) mit Dichtungsmaterial, oder ein dichtendes Kunststoffgewebe.

Die Lichtschachtabdeckung minimiert durch den Hohlraum zwischen Kunststofffläche (1) und Lichtschachtgitter, sowie durch die Anordnung der Lüftungsöffnungen den Stau von Kondenswasser und Luftzirkulation. Die Gestaltung des Rahmens bietet weitgehend Schutz vor eindringender Nässe. Die physikalischen und optischen Eigenschaften von Acrylglas bieten Stabilität und ein optisch ansprechendes Ergebnis.

Dokument: DE102010012250A1
Zum Volltext des Patents bei DEPATISnet [PDF]
Offenlegungsschrift
Anmeldedatum: 22.03.2010
Veröffentlichungsdatum: 22.09.2011
Anmelder/Inhaber: AcryEngineering GmbH, 83083, Riedering, DE
Erfinder: Dengl, Andreas Franz, Dipl.-Ing. (FH), 83083, Riedering, DE


© DPMA. Diese Angaben sind dem DEPATISnet des Deutschen Patent- und Markenamtes entnommen. Für deren Richtigkeit und Aktualität wird keine Gewähr übernommen. Für weitere Informationen benützen Sie bitte die Recherche im DEPATISnet. Eine Ermittlung des aktuellen Rechts- und Verfahrensstands zu Patenten und Gebrauchsmustern ist unter http://register.dpma.de/DPMAregister/Uebersicht kostenlos (nach Registrierung) möglich.

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